Professor Advisor | dc.contributor.advisor | Fuenzalida Escobar, Víctor | |
Author | dc.contributor.author | Olavarría Contreras, Ignacio José | |
Staff editor | dc.contributor.editor | Facultad de Ciencias Físicas y Matemáticas | |
Staff editor | dc.contributor.editor | Departamento de Física | |
Associate professor | dc.contributor.other | Flores Carrasco, Marcos | |
Associate professor | dc.contributor.other | Vargas Valero, José | |
Associate professor | dc.contributor.other | Casagrande, Juliano | |
Admission date | dc.date.accessioned | 2013-08-23T18:12:04Z | |
Available date | dc.date.available | 2013-08-23T18:12:04Z | |
Publication date | dc.date.issued | 2013 | |
Identifier | dc.identifier.uri | https://repositorio.uchile.cl/handle/2250/114079 | |
General note | dc.description | Magíster en Ciencias, Mención Física | |
Abstract | dc.description.abstract | Este trabajo analiza el problema de la nucleación de cobre en el proceso de electrodepo-
sición, la formación de estructuras bi y tridimensionales en la superficie de un sustrato, de
manera de determinar las características del sustrato que promueven o impiden la formación
de dichas estructuras.
Para lograr estos objetivos se hace uso de microscopia de puntas de prueba, análisis de
XPS y mediciones cronoamperométricas. Los datos se contrastan con las teorías de nucleación
mediada por difusión para procesos electroquímicos.
Los sustratos utilizados fueron TiO2 en su fase rutilo y dirección (001) y grafito pirolítico
altamente orientado (HOPG)en dirección (0001), debido a que son sustratos planos que debie-
ran permitir un buen control de los defectos superficiales, que son los principales candidatos
como centros de nucleación. Gran parte del trabajo constó en la preparación y caracteriza-
ción del TiO2 ya que, al ser un aislador, debió ser dopado para permitir la electrodeposición,
pero a raíz de este tratamiento se evidenció una nutrida cantidad de defectos superficiales,
tanto topográficos como electrónicos (estos últimos denominados puntos activos") que no
se encuentran bien documentados en la literatura. Es de particular interés sobre el campo
de la electrodeposición el efecto de los defectos electrónicos en la distribución de núcleos, ya
que estos pueden afectar la forma en la que se distribuye el campo eléctrico y por tanto la
manera en que aparecen los núcleos.
Los resultados muestran una disminución de los puntos activos"luego de una electrode-
posición temprana, mientras por AFM se observa la aparición de núcleos puntiagudos y una
considerable disminución de la rugosidad superficial con respecto al sustrato antes del recu-
brimiento. Sin embargo las curvas electroquímicas no tienen una interpretación directa en
términos de las teorías disponibles para nucleación en sistemas electroquímicos. | es_CL |
Lenguage | dc.language.iso | es | es_CL |
Publisher | dc.publisher | Universidad de Chile | es_CL |
Keywords | dc.subject | Electroquímica | es_CL |
Keywords | dc.subject | Nanoestructuras | es_CL |
Keywords | dc.subject | Nucleación | es_CL |
Keywords | dc.subject | Electrodeposición de cobre | es_CL |
Título | dc.title | Nucleación de cobre por electrodeposición sobre TIO2 [001] | es_CL |
Document type | dc.type | Tesis | |