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Professor Guidedc.contributor.advisorFuenzalida Escobar, Víctor
Authordc.contributor.authorOlavarría Contreras, Ignacio José 
Staff editordc.contributor.editorFacultad de Ciencias Físicas y Matemáticas
Staff editordc.contributor.editorDepartamento de Física
Associate professordc.contributor.otherFlores Carrasco, Marcos 
Associate professordc.contributor.otherVargas Valero, José 
Associate professordc.contributor.otherCasagrande, Juliano
Admission datedc.date.accessioned2013-08-23T18:12:04Z
Available datedc.date.available2013-08-23T18:12:04Z
Publication datedc.date.issued2013
Identifierdc.identifier.urihttp://repositorio.uchile.cl/handle/2250/114079
General notedc.descriptionMagíster en Ciencias, Mención Física
Abstractdc.description.abstractEste trabajo analiza el problema de la nucleación de cobre en el proceso de electrodepo- sición, la formación de estructuras bi y tridimensionales en la superficie de un sustrato, de manera de determinar las características del sustrato que promueven o impiden la formación de dichas estructuras. Para lograr estos objetivos se hace uso de microscopia de puntas de prueba, análisis de XPS y mediciones cronoamperométricas. Los datos se contrastan con las teorías de nucleación mediada por difusión para procesos electroquímicos. Los sustratos utilizados fueron TiO2 en su fase rutilo y dirección (001) y grafito pirolítico altamente orientado (HOPG)en dirección (0001), debido a que son sustratos planos que debie- ran permitir un buen control de los defectos superficiales, que son los principales candidatos como centros de nucleación. Gran parte del trabajo constó en la preparación y caracteriza- ción del TiO2 ya que, al ser un aislador, debió ser dopado para permitir la electrodeposición, pero a raíz de este tratamiento se evidenció una nutrida cantidad de defectos superficiales, tanto topográficos como electrónicos (estos últimos denominados puntos activos") que no se encuentran bien documentados en la literatura. Es de particular interés sobre el campo de la electrodeposición el efecto de los defectos electrónicos en la distribución de núcleos, ya que estos pueden afectar la forma en la que se distribuye el campo eléctrico y por tanto la manera en que aparecen los núcleos. Los resultados muestran una disminución de los puntos activos"luego de una electrode- posición temprana, mientras por AFM se observa la aparición de núcleos puntiagudos y una considerable disminución de la rugosidad superficial con respecto al sustrato antes del recu- brimiento. Sin embargo las curvas electroquímicas no tienen una interpretación directa en términos de las teorías disponibles para nucleación en sistemas electroquímicos.es_CL
Lenguagedc.language.isoeses_CL
Publisherdc.publisherUniversidad de Chilees_CL
Keywordsdc.subjectElectroquímicaes_CL
Keywordsdc.subjectNanoestructurases_CL
Keywordsdc.subjectNucleaciónes_CL
Keywordsdc.subjectElectrodeposición de cobrees_CL
Títulodc.titleNucleación de cobre por electrodeposición sobre TIO2 [001]es_CL
Document typedc.typeTesises_CL


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