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Professor Advisordc.contributor.advisorMuñoz, Raúl C.
Authordc.contributor.authorRobles Castillo, Marcelo Edgardo 
Staff editordc.contributor.editorFacultad de Ciencias Físicas y Matemáticas
Staff editordc.contributor.editorDepartamento de Ingeniería Civil
Associate professordc.contributor.otherFuenzalida Escobar, Víctor
Associate professordc.contributor.otherNúñez Vásquez, Álvaro 
Associate professordc.contributor.otherHaberle Tapia, Patricio
Associate professordc.contributor.otherMuñoz Tavera, Enrique
Admission datedc.date.accessioned2014-04-04T15:48:13Z
Available datedc.date.available2014-04-04T15:48:13Z
Publication datedc.date.issued2014
Identifierdc.identifier.urihttps://repositorio.uchile.cl/handle/2250/115600
General notedc.descriptionDoctor en Ciencias de la Ingeniería, Mención Ciencia de los Materiales
Abstractdc.description.abstractSe efectúa una comparación entre la resistividad medida sobre películas delgadas de oro depositado sobre mica, con predicciones basadas en las teorías clásicas de efectos de tamaño: Teorías de Drude, Sondheimer y Calecki; así como predicciones basadas en teorías cuánticas de dispersión electrón-superficie: Teorías de Tesanovic-Jaric-Maekawa, Trivedi-Ashcroft y modificada de Sheng-Xing-Wang. A partir de imágenes topográficas de la superficie capturadas en un microscopio de efecto túnel, se determina la amplitud de rugosidad rms δ y la longitud de correlación lateral ξ, correspondiente a una representación gaussiana de la función promedio de autocorrelación de alturas que describe la rugosidad de cada muestra en la escala de longitud determinada por la longitud de onda de Fermi. Usando las duplas medidas de (δ, ξ) como información de entrada, se presenta una comparación rigurosa entre los datos de resistividad y las predicciones del modelo de Calecki y de las teorías cuánticas sin parámetros ajustables. La resistividad se midió en películas de oro de diferentes espesores evaporadas sobre sustratos de mica, a temperaturas en el rango entre 4K a 300 K. Los datos de resistividad cubren el rango 0.1 < x(T) < 6.8 para 4K < T < 300 K, siendo x(T) el cuociente entre el espesor de la película y el camino libre medio electrónico en el bulto, a una temperatura T. Se identifican experimentalmente la dispersión electrón-superficie y la dispersión electrón-fonón como los mecanismos de dispersión electrónicos microscópicos que dan lugar a la resistividad macroscópica. Las diferentes teorías son todas capaces de estimar la resistividad de las películas delgadas con una precisión mejor que 10%; sin embargo, el camino libre medio y la resistividad correspondientes al bulto, resultan depender del espesor de la película y del modelo teórico utilizado para describir la dispersión electrón-superficie. Sorprendentemente, sólo la teoría de Sondheimer y su versión cuántica, la teoría modificada de Sheng, Xing y Wang, predicen un incremento de resistividad inducido por efectos de tamaño que parecen consistentes con fenómenos galvanomagnéticos publicados -medidos a bajas temperaturas- también producidos por dispersión electrón-superficie.en_US
Lenguagedc.language.isoesen_US
Publisherdc.publisherUniversidad de Chileen_US
Type of licensedc.rightsAttribution-NonCommercial-NoDerivs 3.0 Chile*
Link to Licensedc.rights.urihttp://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/3.0/cl/*
Keywordsdc.subjectLáminas de oroen_US
Keywordsdc.subjectPelículas delgadasen_US
Keywordsdc.subjectNanofilmsen_US
Keywordsdc.subjectResistividaden_US
Títulodc.titleResistividad de películas delgadas de oro depositadas en vacío sobre un sustrato de micaen_US
Document typedc.typeTesis


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