Dosimetría física y clínica de haces de electrones para irradiación total de piel
Professor Advisor
dc.contributor.advisor
Sánchez-Nieto, Beatriz
Professor Advisor
dc.contributor.advisor
Morales Peña, José Roberto
Author
dc.contributor.author
Lucic Rieloff, Felipe
Admission date
dc.date.accessioned
2022-11-03T13:33:37Z
Available date
dc.date.available
2022-11-03T13:33:37Z
Publication date
dc.date.issued
2010
Identifier
dc.identifier.uri
https://repositorio.uchile.cl/handle/2250/188934
Abstract
dc.description.abstract
Objetivos: Optimizar la técnica de irradiación total de piel con electrones (TSEI)
desarrollada en la unidad de radioterapia de Clínica Alemana de Santiago.
Materiales y métodos: Se utilizaron técnicas de dosimetría absoluta y relativa para
determinar la energía del haz óptima para aumentar la dosis en superficie, así como su
homogeneidad. Un grupo de diez diodos fueron caracterizados y luego usados para
caracterizar la unión de campos, de la técnica de campos adyacentes y su optimización.
Estos serán utilizados para dosimetría in vivo en las sesiones de tratamientos. Las
curvas de dosis en profundidad fueron establecidas utilizando dosimetría fílmica y
relativa en agua para un campo simple y los arreglos de seis haces utilizados en la
técnica de TSEI tipo Stanford. Se analizaron la distribución de la dosis y el efecto de la
superposición de campos.
Resultados: La PDD resultante del arreglo de seis haces dobles de electrones con
energía de 6MeV es comparable a m haz simple de energía de 4MeV en condiciones
estándar. Un haz de electrones de 9MeV con un filtro dispersador de 8mm de acrílico,
se comporta de manera similar a la energía de 6MeV antes citada, pero aumenta la dosis
en superficie en un 9%. La técnica de campos adyacentes presenta una heterogeneidad
de la dosis de un 32o/o, resultante en el área de unión de campos y un largo útil de 1,6m.
Con el uso de campos angulados de +2° y un filtro aplanador adicional, la
homogeneidad aumentó a *l5o/o, mejorando la distribución en la unión de campos y
aumentando la dosis hacia los bordes superior e inferior del campo. La variación de las
medidas de los diodos disminuye al usar el filtro dispersador y el filtro aplanador
adicional en condiciones de TSEI y presenta una menor variación (+5%), comparado a el
estándar basal (6MeV sin dispersador). La superposición de campos aporta una
contribución de 1:1 en la entrega de la dosis en superficie.
Conclusiones: El uso de un filtro dispersador de acrílico con seis incidencias tipo
Stanford de haces duales angulados, mejora la homogeneidad de la distribución de dosis
y aumenta la dosis en superficie. El uso de los filtros dispersadores y aplanadores
disminuye la variabilidad de las medidas de los diodos, permitiendo un seguimiento más
preciso de la dosis. La superposición de los campos debe ser considerada en el diseño
del fraccionamiento y la dosis prescrita
es_ES
Lenguage
dc.language.iso
es
es_ES
Publisher
dc.publisher
Universidad de Chile
es_ES
Type of license
dc.rights
Attribution-NonCommercial-NoDerivs 3.0 United States