Este trabajo da cuenta de la medición de magnetorresistencia longitudinal (campo
eléctrico paralelo al campo magnético) y la magnetorresistencia en la configuración
MacDonal (campo eléctrico perpendicular al campo magnético, ambos contenidos en el
plano de la muestra), en películas de oro (con una pureza inicial a¡tes de Ia depositación
de,¿n 99,9999%o) depositadas en una cámara de alto vacío sobre sustratos de mic4 de
espesores: 69 nm, 93 nm, 150 nm, 185 nm.
La importancia de este trabajo radica en el hecho de que, tarto la magnetorresistencia
longitudinal como la magnetorresistencia en la configuración de MacDonald, aumentan
con el espesor de la muestra. Por lo tanto, estos experimentos confirman que la
magnetorresistencia en ambos casos está determinada por el proceso de scattering
electrón - superficie rugosa.
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Universidad de Chile
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