Calificación sísmica de edificios altos.
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Abstract
Chile, como país sísmico, ha tenido éxito en la construcción de estructuras
sismorresistentes, lo que ha permitido acuñar la expresión “Edificio Chileno”.
Para caracterizar el éxito de las estructuras sismorresistentes chilenas en los eventos
registrados hasta 1985 se generó el Perfil Bío-Sísmico, realizado por Guendelman T.,
Guendelman M., Lindenberg J. en 1997 (3). Este estudio se orientó a indagar respecto a los
rangos de ciertos parámetros de los edificios construidos en el país, que hacen que se
comporten sin problemas frente a los sismos. Sin embargo, se realizó con la información
disponible en esos momentos, que eran edificios de menos de 30 pisos.
En este Trabajo de Título se buscó analizar cómo se pueden relacionar estos parámetros
con los que llegarían a poseer edificios altos (sobre 50 pisos o de altura superior a los 200
metros). Con este objetivo se midieron los parámetros del Perfil Bío-Sísmico original para este
nuevo escenario y se agregaron los siguientes:
1. Cuociente entre la altura total versus el periodo con mayor aporte al corte.
2. Esbeltez.
3. Cuociente entre la altura total versus el periodo rotacional.
4. Densidad de muros.
Con una recopilación de información pública, tales como trabajos especializados, libros y
páginas de Internet, se generaron modelos aproximados de 4 edificios altos, analizados con el
software GT Strudl. Tales edificios son:
- Torre Jin Mao ubicada en Shanghái, China, con 88 pisos.
- Taipéi 101 ubicado en Taipéi, Taiwán, con 101 pisos.
- Torres Petronas ubicado en Kuala Lumpur, Malasia, con 88 pisos.
- Central Plaza ubicado en Hong Kong, China, con 78 pisos.
Se concluyó que los parámetros del perfil Bío-Sísmico original siguen teniendo validez para
el caso de edificios de gran altura y califican exitosamente el comportamiento de estas
estructuras.
Los nuevos parámetros propuestos complementan la información del perfil y se propone
incluir algunos de ellos en un nuevo conjunto de indicadores.
Identifier
URI: https://repositorio.uchile.cl/handle/2250/104800
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