Evaluación de los precursores de radicales hidroxilo en la atmosfera de Santiago

Abstract

Este estudio se realizó en Santiago, comuna de Estación Central, campus de la Universidad de Santiago de Chile y se orientó a la medición de niveles de concentración de precursores de radicales hidroxilo, HO, y la obtención de la velocidad de producción del radical HO por cada precursor en función de la hora del día. Se realizaron dos campañas de muestreos, entre el 25 y 30 de Noviembre del 2003 y entre el 8 y 15 de Enero del 2004. Se midieron las concentraciones diarias y en lapsos de tiempo de una hora, de 03, HCHO y NO2 usando un equipo automático, DOAS (espectroscopía de absorción óptica diferencial) y la concentración de PAN mediante cromatografía de gases usando un cromatógrafo automático. El HONO se midió manualmente, usando burbujeadores y espectroscopia de absorción UV-VIS. Simultáneamente se midió la irradianza por radiómetro. Se obtuvieron los perfiles diarios de concentración para cada una de las sustancias estudiadas. En las dos campañas los perfiles de concentración fueron similares. El 03 y PAN mostraron un perfil diurno marcado con máximos alrededor del mediodía (11:00- 13:00); el NO2 presentó dos máximos, uno en la mañana (7:00-9:00) y otro en la tarde (20:00- 23:00); el HCHO presentó máximos generalmente en las primeras horas de la mañana (5:00-7:00) y el HONO muchas veces presentó altas concentraciones durante todo el día. Se calculó la constante de fotólisis para 03, HONO, HCHO y NO2. Finalmente se estimó la velocidad de producción de radicales de cada precursor y la concentración de radicales HO- por hora del día. De acuerdo a la producción de radicales, este estudio permitió concluir que: HONO es importante durante todo el día y su contribución varía entre 49% y 74% (7-25x106 moléculas.cm-3, s-1); HcHO es importante a media mañana (10:00) y después del mediodía (14:00), su contribución varía entre 31ok y 64o/o (6,8-10,1x106

moléculas.cm-3.s1) PAN y 03 son importantes después del mediodía (12:00- 1 5:00), sus contribuciones varían entre 12o/o y 38o/o (3-10x106 moléculas cm-3 s-'¡ y 12oA y 27o/o (3,5-5,8x106 moléculas.cm-3.s'1¡, respectivamente. El NO2 no contribuye significativamente a la producción de radicales en la ciudad de Santiago